WO3光解水析氧
光解水反应能够进行需要满足：
1. 禁带宽度必须合适，既能产生足够的电压以使水分解，但又不能太大，否则激发电子难以越过禁带，而大大降低对太阳能的吸收，其禁带宽度的理想范围为1.6~2.2eV;
2. 具有良好的析氧催化特性，必须能在电解液中稳定，且价格低廉。 能同时满足上述要求的材料还未被发现，但是已经发现的一些材料体系很有潜力，如WO3、Fe2O3、WS2等，而 WO3是其中最具有潜力的。三氧化钨的特性基本能达到PEC吸光催化层的主要要求，它具有优良的氧催化特性，在电解液中稳定，并且价格相对低廉，其禁带宽度为2.4~2.8eV，稍大于理想的禁带宽度。为此，人们做了大量降低禁带宽度的研究，以提高太阳光的吸收率和光电流密度，以满足光电化学分解水的要求。研究表明，掺杂可以调节半导体的禁带宽度 。
光解水制氢和光解水析氧是两个共同存在的半反应，随着半导体光催化材料研究的快速发展，三氧化钨作为光解水催化材料引人注目。Gratian等初步研究了WO3在可见光诱导下的析氧情况。Gao等研究了烧结气氛对WO3光解水催化活性的影响，发现通过化学位控制可显著提高WO3光催化活性的稳定性。Sayama等报道了Fe3+/Fe2+离子与WO3组成的氧化还原系统，该系统中WO3在Fe3+存在的条件下，能在可见光下催化分解产生氧气，而Fe3+不断被消耗的同时Fe2+离子很容易在紫外光下被氧化为Fe3+离子，产生氢气，实现整个系统的循环。
此外，国内有通过溶胶-凝胶法制备WO3，通过在不同温度下对WO5+前驱体进行热处理，得到一系列具有不同氧空位及结晶态的光催化剂，进而分析其光分解水析氧的活性。他们得出，在350°C下处理4小时所得的三氧化钨催化剂的光催化析氧活性最高。
通过Ce/ WO3光催化剂光催化分解水的实验研究表明，对在可见光辐射下进行光催化分解水制氧，于600°C下处理掺杂0.05%的Ce的WO3催化剂的催化活性最高，此时催化剂的析氧速率比未掺杂WO3提高了1.5~1.7倍。
