三氧化钨陶瓷靶材
三氧化钨（WO3，tungsten trioxide）薄膜是一种重要的功能材料，因其具有优良的电致变色性能而被用于系统中。电子束蒸镀法制备致变色用WO3薄膜常用的蒸镀物质有WO3粉末和WO3靶材两种。目前研究较多的是采用WO3粉末作为蒸镀物质，但是采用粉末的形式通常不合适因此选蒸镀物质，但是采用粉末的形式通常不合适因此选蒸镀物质，但是采用粉末的形式通常是不合适的。因此选WO3靶材作为蒸镀物质是一种优化方案。但是当前国内外却鲜有对WO3靶材制备的报道。国内实验室制备的WO3靶材，存在密度低或纯的缺点，因此制备高纯度密度WO3靶材具有重要的意义。
为了制备高纯度超致密WO3靶材，可拟从粉体、成形和烧结三个方面进行研究，而这三的优化组合是达成上述目标的必要条件。具体研究内容包括：
（1）高纯度、烧结活性且压制能优良的WO3粉末的制备；
采用国产的高纯氧化钨（度大于99.99%）为原料，采用低能滚动球磨工艺制备实验粉末，探讨球磨破碎机理以及工艺、介质等对粒度结构和纯度等的影响。
（2）WO3陶瓷的压制工艺优化；
将WO3造粒粉在不同压力下模（为避免夹杂，采用高硬度、耐磨性且主要化学成分为钨的硬质合金镶嵌模具），析压强与坯密度关系以及离散性，探讨最优的压制工艺。
（3）WO3陶瓷的烧结工艺优化。
为了抑制WO3烧结过程中的升华，实验烧结过程中全程通氧。探讨温度、和压坯密度对烧结致的影响，找出最佳工艺。
