Volframoksiidi Fotokroomsed

Volframoksiidi saab kasutada fotokroomseid materjali. Aastal 1973 esimest amorfne volframoksiidi film fotokroomseid nähtus esines ja on laialdaselt muret ja teadus. Aastal 1980 vaakum ladestumise meetod, muutes vaakumi astet valmistamiseks kasutati HXWO3-Y film. Pärast pihustumine meetodit kasutatakse, Ar-O2 (puhas preparaat substöhhiomeetrilistest film), Ar-O2-H2 ja Ar-O2-H2O (WO3 hüdroksiidi koosseisu muudatus) kolme reaktiivne Pommitamisprotsessi atmosfääris valmistati HXWO3-Y film.

Siiski vaakumsadestusega meetod ja Pommitamisprotsessi meetod equipement on kallid, protsess on keerulisem ka, et see ei too kompleks molekulaarstruktuuri kile ja tellitud film. Kõige tähtsam on, ei saa neid kasutatakse laialdaselt massiivne tootmist. Hiljem palju palju muid meetodeid kasutatakse, et toota volframoksiidi, näiteks elektronkiir aurustamise-sadestamise meetodit, elektersadestusvärviga meetod, spray pürolüüsi, sool-geel meetodil.

Volframoksiidi fotokroomseid mõjutavad tegurid:
On palju tegureid, mis mõjutavad volframoksiidi fotokroomseid. Peale selle struktuur ja koostis, atmosfäär mõjutab ka kromaatilise vara. Seoses volframoksiidi koosseisu, seal on palju erinevaid struktuure nagu trikliinsesse, monokliinne, kuusnurkne pronks, pyrochlore faasi. Aga kõige laialdasemalt uuritud on amorfne (a-WO3) või kristalliline (c-WO3) fotokroomseid kile omadused.

Uuring näitab, WO3 on parem fotokroomseid vara võrreldes c-WO3, see on peamiselt seetõttu, c-WO3 on kristalne defektid ja väiksema pindalaga. Erinevad atmosfääri mõjutab ka volframoksiidi fotokroomseid. Alates värvilise seisukohast mõned vesinik või hüdroksüüli orgaaniliste aurude kiirendab reaktsiooni ja parandada värvi volframoksiidi ja imendumist intensiivsusega. Austus pleegitamine mõjutatud oksüdeeriv gaas on suur, nagu O3, H2O2 ja FE2 (SO4) 3 jms. Need mõjutavad tegurid on kasulik parandada volframoksiidi fotokroomseid. Abiks ka paremini fotokroomseid materjali.