Volframoksiidi Õhuke Film

Volframoksiidi kilega on kõige väljapaistvam ion tundlik värvi materjali, siis on reo struktuuri. See kristallstruktuur on tegelikult ABO3 tüübist Perovskite struktuuri vaba meedia saidid A ja B Bits W6 +. Kui on positiivne ioon allikas, elektrivälja rakendatakse põhjustada positiivsed ioonid M ja elektronide difusioon ja migratsiooni WO3 films.When negatiivne pinge rakendatakse WO, positiivsed ioonid implanteeritud WO3 filme, hõivata üks " "asendis moodustavad volfram pronksi Mx WO3. Kui pinge on vastupidine, ioonide kaevandatud WO3 film.

Ioonide süsti ja kaevandamine protsess on pöörduv elektrokeemiliste reaktsiooni. Ajal ioonimplantatsioonil ja kaevandamise protsessi volframoksiidi film, optilised omadused film (valguse läbilaskvus peegeldusvõime, neeldumise ja murdumisnäitaja jne) ja elektrilised omadused on oodata olulisi muudatusi. Näiteks Mis tõusu ioonimplantatsioonil summa X, MxWO3 alates isolaatori ümber pooljuhtide isegi metallist omadused, eritakistus muutused võivad tekkida 6 ~ 5X01`ncm 01 vahemikus. Ka filmi pöörduvalt muutub vahel läbipaistev riigi sinine. See ioon-tundlik värvi mõju WO kilega saab rakendada optiline lülitid smart aken (SmratWindow), infotablood, gaasi andurid, pH sondid ja muudes valdkondades.

Kuna volframoksiidi electrochromic leiti Deb 1969, inimesed on teinud palju uurimusi electrochromic materjale. Toodavad meetod mõjutada volframoksiidi kilega vara. Erinevad tootma meetod põhjustab kristallide teistsugused kuju ja konstruktsioon kilega.

Toodavad WO3 kilega termilise aurustamise ravida filmi atmosfääris 350 ℃ kuni 450 ℃, mõju erinevate temperatuuride vahemikus kohta kilega on uuritud. See näitab, et atmosfääris, kilega hakkab kristallilise all 390 kraadi Celsiuse järgi, viimistletud 450 kraadi Celsiuse järgi. Mis temperatuuri tõus, WO3 kilega muudab oma värvi.