ทังสเตนออกไซด์เซรามิก

ทังสเตนออกไซด์ (WO3) เป็นสิ่งสำคัญอย่างยิ่งวัสดุไฮเทควัสดุนี้เป็นแบบไม่เชิงเส้นสูงอิเล็กทริกคง อิ กับการตรวจจับก๊าซปฏิกิริยาทางเคมีและคุณสมบัติอื่น ๆ สำหรับคุณสมบัติของ WO3 ที่นาโนผง WO3 สามารถยิงเข้าไปในเซรามิกวาริสเตอร์ตัวเก็บประจุเซรามิก, ไฟ (ไฟฟ้า) สีฟิล์มเซรามิก, เซรามิกก๊าซตรวจจับการย่อยสลายออกไซด์เยื่อหุ้มเซรามิกขั้วแบตเตอรี่วัสดุเซรามิก, เครื่องไมโครเวฟดูดซับฟิล์มเซรามิก ใหม่ที่อุณหภูมิสูงเซรามิกเทอร์โมและเซรามิกการทำงานและภาพยนตร์เซรามิกที่มีศักยภาพที่ดีในหลาย ๆ ทางเคมี, พลังงาน, ไฟฟ้าและสาขาอื่น ๆ

มีสองวิธีการเตรียมความพร้อมของวัตถุดิบเซรามิกที่หยุดชะงักวิศวกรรมและการสังเคราะห์เป็น หนึ่งในอดีตใช้หลักการวิศวกรรมบดอนุภาคหยาบที่จะได้รับผงละเอียดซึ่​​งมีข้อได้เปรียบของจำนวนมากของการผลิตและต้นทุนต่ำ แต่มีปัญหาในเรื่องของสิ่งสกปรกที่ผสมอยู่ในขั้นตอนการบดและมันเป็นเรื่องยากที่จะได้รับมีขนาดอนุภาค submicron และผงที่ผลิตโดยการสังเคราะห์มีความบริสุทธิ์สูงขนาดอนุภาคขนาดเล็กสม่ำเสมอองค์ประกอบที่เหมาะสมสำหรับความต้องการที่มีประสิทธิภาพสูง, ความต้องการการผลิตต่ำของวัสดุเซรามิกขั้นสูง

ผงนาโนเมตร WO3 จัดทำขึ้นโดยมิลลิ่งกลเป็นวัตถุดิบของการเผาเซรามิกทังสเตนไตรออกไซด์, ระบบการศึกษาอิทธิพลของพารามิเตอร์กัดกับขนาดอนุภาคบดสามารถบรรลุผลลัพธ์ที่ดีที่สุด