التنغستن أكسيد الهدف السيراميك

التنغستن فيلم ثالث أكسيد هو مادة وظيفية هامة، تم استخدامه في نظام بسبب خصائصه كهربائيا ممتازة. المواد تبخر الرئيسية المستخدمة في شعاع الالكترون التبخر إعداد فيلم WO3 كهربائيا هي مسحوق WO3 والهدف WO3. مزيد من البحث الحالي على مسحوق WO3 كمادة التبخر، ولكن على شكل مسحوق غير مناسب عموما، لذلك يتم اختيار المواد التبخر. وذلك باختيار الهدف WO3 كمادة التبخر هو برنامج الأمثل. ومع ذلك، هناك بعض التقارير من إعداد الهدف WO3 في الداخل أو في الخارج. الهدف WO3 أعدت في المختبرات المحلية لديها عيوب منخفض الكثافة أو نجس، وبالتالي فإن إعداد عالية النقاء والهدف densityWO3 ارتفاع كبير.

لإعداد عالية النقاء WO3 المدمجة فائقة الهدف، فإنه يمكن البحث في مسحوق، وتشكيل وتلبد، الجمع الأمثل للالذي هو شرط ضروري لتحقيق الأهداف المذكورة أعلاه.

(1) إعداد مساحيق WO3 عالية النقاء، والنشاط تلبد عالية وقمع. استخدام المنزلي عالية النقاء أكسيد التنجستن (أكبر من 99.99٪) والمواد الخام والطاقة المنخفضة المتداول عملية طحن الكرة لإعداد مسحوق التجريبية، والتحقيق في آلية سحق وآثار تكنولوجيا الطحن، وسائل الإعلام، وما إلى ذلك على حجم هيكل والنقاء.

(2) السيراميك WO3 الضغط عملية التحسين. وضع WO3 مساحيق حبيبات تحت الضغوط المختلفة في القالب، وتحليل العلاقة بين الضغط والكثافة الخضراء ومنفصلة استكشاف عملية الضغط الأمثل.

(3) تحسين WO3 السيراميك عملية التلبيد. من أجل قمع والتسامي عملية التلبيد WO3، وينبغي أن تكون عملية التكلس في الأكسجين في كافة مراحل التجربة. تحقيق في الآثار المترتبة على درجة الحرارة وكثافة التعاقدات متكلس تسبب والعثور على الوجه الأمثل.