Mục Tiêu Oxit Vonfram Gốm

Vonfram phim trioxide là một vật liệu chức năng quan trọng, nó được sử dụng trong hệ thống bởi vì tính chất điện sắc tuyệt vời của nó. Các vật liệu bốc hơi chính được sử dụng trong điện tử chùm bốc hơi chuẩn bị phim WO3 điện sắc là bột WO3 và mục tiêu WO3. Nhiều nghiên cứu hiện nay là trên bột WO3 làm nguyên liệu bốc hơi, nhưng dạng bột nói chung là không thích hợp, vì vậy vật liệu bốc hơi được chọn. Vì vậy, việc lựa chọn mục tiêu WO3 như một vật liệu bốc hơi là một chương trình tối ưu hóa. Tuy nhiên, có vài báo cáo về việc chuẩn bị mục tiêu WO3 ở nhà hoặc ở nước ngoài. WO3 mục tiêu chuẩn bị trong các phòng thí nghiệm trong nước có nhược điểm về mật độ thấp hoặc không tinh khiết, vì vậy việc chuẩn bị có độ tinh khiết cao và mục tiêu densityWO3 cao là đáng kể.

Để chuẩn bị tinh khiết cao mục tiêu WO3 siêu nhỏ gọn, nó có thể được nghiên cứu ở dạng bột, hình thành và quá trình thiêu kết, sự kết hợp tối ưu trong số đó là những điều kiện cần thiết để đạt được các mục tiêu trên.

(1) Chuẩn bị bột WO3 có độ tinh khiết cao, hoạt động thiêu kết cao và đàn áp; Sử dụng nước có độ tinh khiết cao vonfram oxit (lớn hơn 99,99%) làm nguyên liệu và năng lượng thấp lăn quá trình xay xát bóng để chuẩn bị bột nghiệm, điều tra cơ chế nghiền và những tác động của công nghệ xay xát, phương tiện truyền thông, vv trên kích thước của cấu trúc và độ tinh khiết.

(2) gốm WO3 nhấn quá trình tối ưu hóa; Đặt WO3 bột hạt dưới áp lực khác nhau trong khuôn, và phân tích mối quan hệ giữa áp suất và mật độ màu xanh lá cây và rời rạc khám phá quá trình ép tối ưu.

(3) WO3 gốm quá trình thiêu kết tối ưu hóa. Để ngăn chặn sự thăng hoa của quá trình thiêu kết WO3, quá trình thiêu kết phải ở trong oxy suốt thí nghiệm. Điều tra tác động của nhiệt độ và mật độ của máy ảnh compact thiêu kết gây ra và tìm thấy những tối ưu.